Lors de l’impression sur des matériaux sensibles à la chaleur, la chaleur générée par un dispositif de cicatrisation UV standard n’est pas seulement gênante : elle déforme le substrat et perturbe l’alignement des éléments à imprimer. C’est pourquoi nous avons conçu une solution basée sur un réflecteur intégré dans la lampe UV, afin d’obtenir un profil de rayonnement vraiment froid.
Le point clé est le contrôle spectral. Nous utilisons une lampe à vapeur de mercure à haute pression, accompagnée d’un réflecteur doté d’un revêtement dichroïque. Ce réflecteur est configuré pour diriger l’énergie lumineuse vers les longueurs d’onde de 365 nm et 385 nm, tout en éliminant les rayonnements infrarouges. Ainsi, l’énergie lumineuse est concentrée sur ce dont a besoin le photoinitiateur, sans chauffer le substrat.
On obtient ainsi un flux lumineux stable et reproductible, ce qui permet une liaison rapide entre les molécules du matériau, sans que celui-ci ne se déforme.
C’est précisément pourquoi cette solution fonctionne bien avec les matériaux sensibles à la chaleur. On obtient une intensité de rayonnement suffisante pour assurer une liaison complète en une seule passe, tandis que le substrat reste stable en termes de dimensions. Sur toute la largeur du substrat, on observe une densité d’énergie constante, avec un minimum de transfert thermique. En pratique, cela signifie une productivité plus élevée et moins de rejets dus à la déformation du matériau.
L’installation se résume à une bonne géométrie : le réflecteur doit être aligné avec l’arc de la lampe et le plan du substrat. Sinon, on observe des bandes irrégulières sur le substrat. La compatibilité est bonne avec la plupart des presses UV offset, flexo et à écran, mais il convient de vérifier la longueur de la lampe, le type de culot et la distance focale du réflecteur.
De plus, il est nécessaire d’utiliser cet équipement dans un environnement exempt d’ozono. Cela prolonge la durée de vie de la lampe et maintient sa capacité de réflexion pendant plus de 5 000 heures.