Při tisku na termoreaktivní materiály je teplo vznikající při běžném UV zahušťování nejen otravné – navíc způsobuje deformaci podkladu a narušuje správné umístění prvků na povrchu. Proto jsme vyvinuli řešení založené na reflektoru na UV lampě, který umožňuje použití „chladného“ zdroje světla.
Klíčem je spektrální kontrola. Používáme vysokotlakou lampu s rtutným párou a reflektor s dichroickým povlakem. Tento systém je nastaven tak, aby maximální výkon byl dosažen ve vlnových délkách 365 nm a 385 nm, zatímco infračervené světlo je eliminováno. Díky tomu je spektrální výstup zaměřen právě na to, co potřebuje fotoiniciátor, a ne na zahřívání podkladu.
Výsledkem je stabilní a reprodukovatelný úroveň osvětlení, která umožňuje rychlé vzájemné spojení molekul bez poškození materiálu.
Právě proto to funguje i na termoreaktivních materiálech – máte dostatečnou intenzitu světla a hustotu energie pro dokonalé vzájemné spojení v jednom průchodu, přičemž podklad zůstává dimenzionálně stabilní. V šířce plochy je pak dosaženo konzistentní hodnoty mJ/cm² s minimálním teplotním vlivem. V praxi to znamená vyšší efektivitu tisku a méně vad způsobených deformací.
Instalace spočívá v správné orientaci reflektoru vzhledem k oblouku lampy a rovině podkladu – pokud to není správně, objeví se pruhování na povrchu podkladu. Kompatibilita je většinou jednoduchá u většiny UV tiskáren typu offset, flexo a sítotisk, ale je potřeba zkontrolovat délku lampy, typ koncových krytů a ohniskovou vzdálenost reflektoru.
Lampa by měla být používána v prostředí bez ozónu – to prodlužuje životnost lampy a udržuje reflexivitu reflektoru na vysoké úrovni po dobu více než 5 000 hodin.